VP-R系列真空等離子清洗機(jī)

VP-R系列真空等離子處理儀對標(biāo)國際品牌，*技術(shù)空白（專li：低溫真空石英腔體等離子清洗裝置），VP-R系列頻率13.56MHz，能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運(yùn)行30分鐘，腔體溫度不高于32℃，不損傷樣品，適用于微流控芯片PDMS鍵合、ITO導(dǎo)電玻璃、石墨烯、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。

VP-R系列真空等離子清洗機(jī)特點(diǎn)

VP-R系列真空等離子清洗機(jī)優(yōu)勢

01 Better Reliability，Better Operation

內(nèi)置兩路氣路，氣體流量可調(diào)，無需再搭配氣體混合儀

zuan利軟件、操作簡易，智能化設(shè)計，避免誤操作

采用數(shù)字顯示壓力，實時觀察腔體壓力變化情況

中英文操作系統(tǒng)，觸摸屏控制，人機(jī)界面友好

電流、電壓實時監(jiān)測，確保儀器穩(wěn)定安全運(yùn)行

清洗時長可在觸摸屏設(shè)置，等離子處理時間精確到秒（s）

PLASMA處理結(jié)束后，自動泄壓，泄壓時長和大小可調(diào)；可通入氮?dú)庑箟?/span>

功率高、中、低三擋可調(diào)

02對標(biāo)國際yi線品牌，*技術(shù)空白

國內(nèi)shou創(chuàng)，13.56MHz頻率用于PLASMA處理

性能bi肩國際一線產(chǎn)商，在控制自動化，人性化設(shè)計方面國際領(lǐng)xian

通入氣體和泄壓是獨(dú)立通道互不干擾；自動泄壓比手動泄壓更方便

腔體低溫，滿功率運(yùn)行30分鐘腔體溫度不高于32°C，不損傷樣品

腔體材質(zhì)為石英，不與等離子體反應(yīng)，保證樣品不被污染

13.56MHz等離子體處理對材料既有清潔、刻蝕、也有活化改性作用

等離子體從腔體四周發(fā)出，對樣品處理更均勻、更*

03細(xì)節(jié)把控，給用戶更好體驗

石英材質(zhì)真空腔體不與等離子體產(chǎn)生反應(yīng)，不會污染樣品

配備的真空泵噪音和油氣污染小，真空度高

真空泵與主機(jī)聯(lián)動，可在觸摸屏控制真空泵開啟/關(guān)閉

1.5米不銹鋼波紋管，比橡膠管更耐用，密封性更好

標(biāo)配清洗托盤，方便使用

安捷倫Agilent干泵（選配），避免油氣污染

OF-20油污過濾器（選配），避免排氣口油氣對實驗室環(huán)境的污染

04經(jīng)典清洗案例分析

石墨烯粉末清洗、改性，去除粉末雜質(zhì)和油質(zhì)，增加石墨烯表面親水基團(tuán)（-OH）提高親水性

金屬工件油污等離子清洗，不損傷樣品，去除表面油污

PDMS等離子活化改性，提升親水性和鍵合力

ITO導(dǎo)電玻璃親水性處理并提高其功函數(shù)

二維材料的清潔、刻蝕

硅片親水性處理，改性、活化表面

05石墨烯粉末VP-R3親水性處理XPS譜圖分析

處理前石墨烯粉末溶于蒸餾水，會粘在瓶壁上

處理后石墨烯粉末上下?lián)u勻后，不會粘在瓶壁

處理前石墨烯粉末很快下沉到瓶底，肉眼可見分層明顯

處理后石墨烯粉末懸浮在水體，說明其親水性增強(qiáng)

綠色曲線為處理前的XPS譜圖，曲線一直都是平穩(wěn)走向

紅色曲線為處理后的XPS譜圖，曲線在285eV左右有個峰值，

可知石墨烯粉末的性質(zhì)已改變

處理后石墨烯導(dǎo)熱率可提高40%，穩(wěn)定性增強(qiáng)

06 ITO導(dǎo)電玻璃等離子VP-R3處理接觸角測量儀分析

CM-180接觸角測定可知，未處理ITO接觸角為80°C，處理后ITO接觸角48°C，親水性明顯增強(qiáng)

處理前平均接觸角、右接觸角和左接觸角三條曲線分離，處理后三條曲線重合，說明ITO表面更平整

VP-R系列滿功率運(yùn)行30分鐘腔體溫度低于32°C，非常適合ITO導(dǎo)電玻璃不耐熱屬性

通入氧等離子體時，可以提高ITO導(dǎo)電玻璃的功函數(shù)


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